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        • 鉬靶材
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        鉬靶材

        鉬靶材是一種用于濺射鍍膜工藝的高質(zhì)量金屬材料,由于鉬的高熔點(diǎn)和熱穩(wěn)定性,鉬靶材在高溫濺射工藝中表現(xiàn)優(yōu)質(zhì),具有卓越的性能和廣泛的用途。我們的鉬靶材具有很高的化學(xué)純度以確保薄膜沉積過程中的高質(zhì)量和可靠性;還擁有均勻的微觀結(jié)構(gòu),有助于產(chǎn)生均勻、穩(wěn)定的薄膜。鉬靶材被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中,用于制備導(dǎo)電層、光學(xué)薄膜和其他功能性薄膜。在光學(xué)領(lǐng)域,鉬靶材也可用于制備高反射率鏡片、光學(xué)涂層和其他光學(xué)元件。

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        產(chǎn)品詳情

        品名 

        鉬靶材 

        成分

        Mo

        外觀

        銀白

        純度(%)

        ≥99.95%

        相對(duì)密度

        ≥99.9%

        規(guī)格(mm)

        ?135×?171×L2700、?125×?151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18

        雜質(zhì)≤ (ppm)

        Fe

        Al

        Si

        Ni

        Cu

        Cr

        Sum

        100

        50

        50

        50

        50

        50

        500